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Vertikale PVD-Sputteranlage für partikelfreie Beschichtungen

Die VISTARIS PVD von SINGULUS TECHNOLOGIES ist eine leistungsstarke, vertikale Inline-PVD-Sputteranlage, die speziell für partikelfreie Dünnfilmbeschichtungen in Wasserstoffenergieanwendungen entwickelt wurde. Seine vertikale Ausrichtung reduziert die Verunreinigung durch Partikel erheblich und eignet sich daher besonders gut für Kohlenstoffbeschichtungen und andere hochreine Schichten, die auf Bipolarplatten (BPPs) aufgebracht werden, die in PEM-Brennstoffzellen und Elektrolyseuren verwendet werden. In diesen Systemen sind hochleistungsfähige Beschichtungen unerlässlich, um die Korrosionsbeständigkeit zu erhöhen, die Leitfähigkeit zu verbessern und die Lebensdauer kritischer Komponenten zu verlängern.

Das Herzstück von VISTARIS ist eine modulare Vakuumkammerkonstruktion, die eine gleichmäßige und skalierbare Beschichtungsleistung ermöglicht. Die vertikale Inline-Sputterkonfiguration unterstützt Substratbreiten von 0,3 bis 2,5 Metern und bietet einen optimierten Durchsatz sowohl für Pilot- als auch für Massenproduktionsumgebungen. Der Präzisionssubstratträger des Systems ermöglicht ein- oder beidseitige Beschichtungen mit unabhängiger Materialauswahl pro Seite und unterstützt maßgeschneiderte Stapel für katalytische Aktivität und Korrosionsschutz.

Außerdem ist VISTARIS für effizientes Edelmetallrecycling ausgelegt, mit Vakuumkammern, die für maximale Materialrückgewinnungsraten optimiert sind. Dies minimiert die Verluste an wertvollen Materialien wie Platin, Gold und Iridium und verbessert sowohl die wirtschaftliche Rentabilität als auch die Nachhaltigkeit bei der Herstellung von Wasserstoffsystemen in großem Maßstab.

Schlüsselmerkmale und Fähigkeiten

Anwendungen:
- Partikelfreie Kohlenstoff- und korrosionsbeständige Beschichtungen für PEM-Elektrolyseure und Brennstoffzellen
- Beschichtung von BPPs, PTLs, GDLs, MEAs, Kathoden und anderen Stack-Komponenten
- Parallele Verarbeitung von mehreren Substratformaten

Kerntechnologien:
- Vertikaler Inline-Substrattransport für minimale Partikelkontamination
- PVD-Magnetron-Sputtern
- DC-, pDC-, BP- und RF-Prozessoptionen
- Vakuum-Vorbehandlung zur Oberflächenaktivierung
- Substratheizung vor und während der Abscheidung
- Drehbare zylindrische Kathoden für eine effiziente Nutzung des Zielmaterials
- Trägergestützter Transport für eine flexible Handhabung des Substrats

Materialien & Beschichtungen:
- C, Au, Pt, Ir, Cr, CrN und andere Metallnitride
- Ein- und beidseitige Abscheidung, mit flexiblen Schichtstapeln

Skalierbarkeit:
- Unterstützt Substrate von 0.3 × 0,6 m (Labormaßstab) bis 2,5 m Breite (Produktionsmaßstab)
- Erhält eine hohe Beschichtungsgleichmäßigkeit von ±3% über alle Formate hinweg

Skalierbarer Jahresausstoß:
- Bei einer Plattengröße von 600 cm² ermöglicht die SINGULUS in-line PVD-Sputteranlage einen Durchsatz von 1,0 Millionen Bipolarplatten pro Jahr bis zu 10.5 Millionen

Nachhaltigkeit:
- Vakuumkammern, die für hohe Edelmetallrückgewinnungsraten
- Reduzierter Materialabfall und niedrigere Produktionskosten
- Vollständige Recycling-Lieferkette für Edelmetalle

Mit seiner vertikalen Konfiguration, partikelfreien Beschichtungsmöglichkeiten und der skalierbaren Architektur ist VISTARIS PVD eine innovative Lösung für hochreine, hocheffiziente Beschichtungsprozesse in der industriellen Wasserstofftechnologie.

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Geben Sie sich nicht mit suboptimalen Beschichtungen zufrieden. Fordern Sie unsere Experten heraus, um Ihre Brennstoffzellenstapel, Elektrolyseurplatten oder jede andere Präzisionskomponente - ob groß oder klein - zu verbessern. Setzen Sie sich noch heute mit uns in Verbindung, um Ihre Spezifikationen zu besprechen, Muster anzufordern oder eine Werksbesichtigung zu vereinbaren.

Vertikales PVD-Sputter-System für partikelfreie Beschichtung

Vertikale PVD-Sputteranlage für partikelfreie Beschichtungen

Schlüsselmerkmale und Fähigkeiten

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