Name: 用于贵金属镀层的磁控溅射设备
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用于贵金属镀层的磁控溅射设备

随着质子交换膜（PEM）电解槽和燃料电池需求的激增，零部件制造商需要能够最大限度减少对昂贵贵金属依赖的、稳健且可扩展的生产线。

AGC Plasma——AGC Inc.旗下的工业涂层业务部门——致力于设计、制造、安装和调试最先进的磁控溅射真空设备。

凭借数十年来在大面积玻璃涂层领域的专业经验，我们的系统可提供高效制氢所需的精确电导率和化学稳定性。

系统主要特点与制造优势

先进的 PVD 技术：经过行业验证的真空沉积系统，具有卓越的工艺稳定性、高可重复性和低颗粒污染。

降低材料成本：可实现精确、超薄的贵金属涂层沉积，与传统的湿化学方法相比，大幅降低了每个组件的贵金属消耗量。

专有均匀性：配备 AGC 独有的在线可调磁棒 (iOSMB) 技术，在大面积基板上提供无与伦比的涂层均匀性，从而优化生产良率。

增强的组件性能：整合了自动基板预清洗和底涂技术，最大限度地提高抗氧化/抗腐蚀能力，并降低欧姆电阻。

环保操作：100% 干式等离子制造工艺，无需使用有害且具腐蚀性的化学电镀液。

设备产品组合与定制化

AGC Plasma 提供完全模块化的设备组合，可根据您的具体生产空间量身定制：

生产形式：

片对片（S2S）：适用于刚性双极板和平面组件的高吞吐量生产（最大样品尺寸可达 1750 毫米 × 1500 毫米）。
卷对卷（R2R）：适用于柔性箔材、卷材和纺织品的连续大批量加工。

可扩展架构：模块化设备设计支持生产能力的无缝升级，可轻松从研发和中试生产线扩展至大规模工业化生产。

全球交钥匙支持：由 AGC Inc. 提供支持，通过遍布美国、欧洲和亚太地区的研发及生产中心，提供无缝的安装、调试和全生命周期服务。

用于贵金属镀层的磁控溅射设备